Hey there! HUNDA was founded in 2009.
全球两大晶圆制造公司台积电、三星在先进制程技术竞逐转趋激烈。继三星16日抛出5纳米极紫外光(EUV)制程开发成功，并传今年将量产6纳米，台积电傍晚也宣布推出6纳米(N6)制程技术，并预计2020年第1季进入试产。
台积电表示，N6制程技术将大幅强化目前领先业界的 7 纳米(N7)技术，协助客户在效能与成本间取得高度竞争力优势，同时借由N7技术设计的直接移转而达到加速产品上市的目标。
台积业务开发副总经理张晓强表示，N6技术将会比目前的N7进一步延续
领先地位，提供客户更高的效能与成本效益。此制程技术的强化，建立于台积电在 7 纳米技术广泛成功的基础之上，「我们深具信心，客户能够借由现今完备的设计生态系统，迅速的从此项新技术之中获取更高的产品价值」。
台积电进一步说明，借由目前试产中的7纳米强效版(N7+)使用极紫外光(EUV)微影技术所获得的新能力，N6技术逻辑密度较N7技术增加18%;且N6技术的设计法则与公司通过考验的 N7 技术完全兼容，使7纳米完备的设计生态系统能够被再使用。因此，N6提供客户一个具备快速设计周期且只需使用非常有限的工程资源的无缝升级路径，支援客户采用此项崭新的技术来达成产品的效益。
台积电指出，N6技术预计于2020 年第1季进入试产，提供客户更多具成本效益的优势，并且延续 7 纳米家族在功耗及效能上的领先地位，支援多样化的产品应用，包括高端到中端移动产品、消费性应用、人工智能、网通、5G 基础架构、绘图处理器、以及高效能运算。
在线客服